気化器と気化技術 | 株式会社リンテック

半導体業界でTEOSの安定的な連続気化供給システムが求められた1990年代、リンテックは気化器と液体マスフローを使った直接気化方式を世界に先駆けて開発しました。

液体気化技術の基本原理

物質の状態は固体、液体、気体の三態で、温度と圧力によって変化します。

温度のアプローチ：ガスMFCベーキング方式、ノンキャリア気化器
温度と圧力のアプローチ：気化器直接気化方式、バブリング方式
圧力のアプローチ：低差圧MFC（MC-3000S）

蒸気圧と気化濃度

ガス濃度の計算は「分圧÷全圧×100＝ガス濃度（%）」です。

液化ガスの分圧は蒸気圧曲線を超える事は出来ません。

蒸気圧曲線

物質の状態は温度と圧力に依存します。温度が高いと液体が気体に変化（気化）する力（蒸気圧）は上昇し、温度が低いと蒸気圧は低下します。この温度と蒸気圧の最大量のを表した物が蒸気圧曲線です。

気化技術ご紹介

気化器直接気化方式

液体用マスフローメータで液相の質量を測定、後段の気化器で全量気化させる方式です。TEOSを始め、CVD工程で使われます。

ベーキング方式

液体を加熱し、蒸発した気体を高温ガスマスフローコントローラで制御する方式です。光ファイバの製造工程などで使われています。

バブリング方式

液体容器にキャリアガスを通すことでキャリアガスに気化ガスを溶け込ませる方式です。主にMOCVDで使われています。

液体気化原料実績

元素	名称	略称	化学式	CAS No.
Al	トリメチルアルミニウム	TMA	Al(CH3)3	75-24-1
	トリエチルアルミニウム	TEA	Al(C2H5)3	97-93-8
	トリス（1-メトキシ-2-メチル-2-プロポキシ）アルミニウム	Al(MMP)3	Al[CH3OCH2C(CH3)2O]3	478695-89-5
	ジメチルアルミニウムハイドライド	DMAH	H(CH3)2Al	885-37-2
	トリブトキシアルミニウム	ASBO	Al[OCH(CH3)CH2CH3]3	2269-22-9
B	トリエチルボロン	TEB	B(OC2H5)3	150-46-9
	トリメチルボロン	TMB	B(OCH3)3	121-43-7
	トリスジメチルアミノボロン	TMAB	B[N(CH3)2]3	4375-83-1
Ba	ビスジピバロイルメタナートバリウム	Ba(DPM)2	Ba(C11H19O2)2	17594-47-7
Bi	トリメチルビスマス		Bi(CH3)3	593-91-9
Ce	テトラキステトラメチルペプタンジオナートセリウム	Ce(DPM)4	Ce(C11H19O2)4	18960-54-8
Cl	四塩化炭素		CCl4	56-23-5
	1,1,2-トリクロロエタン		C2H3Cl3	79-00-5
	テトラクロロエチレン		C2Cl4	127-18-4
Co	コバルトアルキルアミジネイト	Co AMD
Cu	ビスジピバロイルメタナート銅	Cu(DPM)3	Cu(C11H19O2)2	14040-05-2
	ヘキサフルオロアセチルアセトナトトリメチルビニルシリル銅	Cu(hfac)(TMVS)	C10H13CuF6O2 Si	139566-53-3
	ビスエチルジメチルデカンジオナート銅	Cu(EDMDD)2	Cu[(CH3)3CC(O)CHC(O)CH(C2H5)C4H9]
Ga	トリエチルガリウム	TEG	(C2H5)3Ga	1115-99-7
	トリメチルガリウム	TMG	(CH3)3Ga	1445-79-0
Ge	テトラエトキシゲルマン		Ge(OC2H5)4	14165-55-0
	テトラメトキシゲルマン		C4H12GeO4	992-91-6
Hf	テトラキスジメチルアミノハフニウム	TDMAH	Hf[N(CH3)2]4	19782-68-4
	テトラキスエチルメチルアミノハフニウム	TEMAH	Hf[N(C2H5)CH3]4	352535-01-4
	テトラキスジエチルアミノハフニウム	TDEAH	Hf[N(C2H5)2]4	19824-55-6
	テトラブトキシハフニウム	HTB	Hf(OtC4H9)4	2172-02-3
I	五フッ化ヨウ素		IF5	7783-66-6
In	インジウムアセチルアセトナート	In(acac)3	In(C5H7O2)3	14405-45-9
	トリメチルインジウム	TMI	(CH3)3In	3385-78-2
	トリエチルインジウム	TEI	In(C2H5)3	923-34-2
La	テトラメチルオクタンジオンランタン	La(TMOD)3
Nb	ペンタエトキシニオブ	PEN	Nb(OCH2CH3)5	3236-82-6
Ni	ニッケルアルキルアミジネイト	Ni AMD
P	トリメチルホスフィン	TMOP	PO(OCH3)3	512-56-1
	トリエチルホスフィン	TEPO	PO(OC2H5)3	78-40-0
	亜リン酸トリメチル	TMP	P(CH3O)3	121-45-9
Pb	ビスジピバロイルメタナート鉛	Pb(DPM)2	Pb(C11H19O2)2	21319-43-7
	ビステトラメチルヘプタンジオナート鉛	Pb(thd)2
	テトラメチルオクタンジオン鉛	Pb(TMOD)2
Pr	トリスエチルシクロペンタジエニルプラセオジム	Pr(EtCp)3	Pr(C5H4C2H5)3	108-88-3
	トリステトラメチルヘプタンジオナトプラセオジム	Pr(DPM)3	Pr(C11H19O2)3	15492-48-5
Pt	トリメチルメチルシクロペンタジエニルプラチニウム		C9H16Pt	94442-22-5
Ru	ビスエチルシクロペンタジエニルルテニウム	Ru(EtCp)2	Ru(C2H5C5H4)2	32992-96-4
	ジメチルペンタジエニルエチルシクロペンタジエニルルテニウム	DER	Ru(C7H9)(C7H11)	501652-75-1
Si	テトラエトキシシラン	TEOS	Si(OC2H5)4	78-10-4
	四塩化珪素		SiCl4	10026-04-7
	トリクロロシラン	TCS	SiHCl3	10025-78-2
	テトラメトキシシラン	TMOS	Si(OCH3)4	681-84-5
	ヘキサメチルジシラザン	HMDS	C6H19NSi2	999-97-3
	ヘキサメチルジシロキサン	HMDSO	C6H18OSi2	107-46-0
	ビスターシャルブチルアミノシラン	BTBAS	[(CH3)3CNH]2SiH2	186598-40-3
	ジイソブチルジメトキシシラン	DIBDMS	C10H24O2Si	17980-32-4
	テトラメチルシラン	TMS	Si(CH3)4	75-76-3
	メチルジエトキシシラン	DEMS	C5H14O2Si	2031-62-1
	トリメチルシラン		C3H10Si	993-07-7
	メチルトリクロロシラン		CH3Cl3Si	75-79-6
	オクタメチルシクロテトラシロキサン	OMCTS、D4	C8H24O4Si4	556-67-2
	テトラメチルシクロテトラシロキサン	TMCTS	C4H16O4Si4	2370-88-9
	トリスジメチルアミノシラン	TDMAS	SiH[N(CH3)2]3	15112-89-7
	テトラメチルジシラザン	TMDS	C4H15NSi2	15933-59-2
	トリメトキシシラン		C3H10O3Si	2487-90-3
	テトラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサン		[(CH2=CH)(CH3)SiO]4	2554-06-5
	ジメトキシメチルビニルシラン	VMDS	C5H12O2Si	16753-62-1
	ジメチルジエトキシシラン	DMDES	(CH3)2Si(OC2H5)2	78-62-6
	ジメチルフェニルシラン	DMPS	C8H12Si	766-77-8
	メチルトリメトキシシシラン		(CH3)Si(OCH3)3	1185-55-3
	へプタデカフルオロデシルトリイソプロポキシシラン		C13H13F17O3Si	83048-65-1
	オクチルトリエトキシシラン		C14H32O3Si	2943-75-1
Sn	四塩化スズ		SnCl4	7646-78-8
	テトラブチルスズ		[CH3(CH2)3]4Sn	1461-25-2
	ジブチルスズビスアセチルアセトナート		Sn(C9H16O2)2	22673-19-4
Sr	ビスジピバロイルメタナートストロンチウム	Sr(DPM)2	Sr(C10H10F7O2)2	36885-30-0
	メトキシエトキシテトラメチルヘプタンジオネートストロンチウム			280572-89-6
Ta	ペンタエトキシタンタル	PET	Ta(OC2H5)5	6074-84-6
	ターシャリブチルイミノトリス（エチルメチルアミノ）タンタル	TBTEMT	Ta(NtC4H9)[N(C2H5)CH3]3	511292-99-2
	ターシャリブチルイミノトリスジエチルアミノタンタル	TBTDET	T-BuN=Ta(NEt2)3	169896-41-7
	ターシャリアミルイミドトリスジメチルアミノタンタル	Taimata	Ta[NC(CH3)2C2H5][N(CH3)2]3	440081-38-9
	ペンタキスジメチルアミノタンタル	PDMAT	C10H30N5Ta
Ti	四塩化チタン		TiCl4	7550-45-0
	テトライソプロポキシチタン	TTIP	Ti(i-OC3H7)4	546-68-9
	テトラキスジエチルアミノチタン	TDEAT	Ti[N(C2H5)2]4	4419-47-0
	テトラキスエチルメチルアミノチタン	TEMAT	Ti[N(CH3)C2H5]4	308103-54-0
	テトラキスジメチルアミノチタン	TDMAT	Ti[N(CH3)2]4	3275-24-9
	ジイソプロポキシジピバロイルメタナートチタン	Ti(iPrO)2(DPM)2	Ti(C11H19O2)2(O-i-C3H7)2	144665-26-9
	テトラキスメトキシメチルプロポキシチタン	Ti(MMP)4
V	塩化バナジウム		VCl4	7632-51-1
	テトラキスエチルメチルアミノバナジウム	V(NEtMe)4
Y	トリスジピバロイルメタナートイットリウム	Y(DPM)3	Y(C11H19O2)3	15632-39-0
Zn	ジエチル亜鉛	DEZ	(C2H5)2Zn	557-20-0
	ビスオクタンジオナト亜鉛	Zn(OD)2	[CH3COCHCO(CH2)3CH3]2Zn
Zr	テトラキスエチルメチルアミノジルコニウム	TEMAZ	Zr[N(CH3)CH2CH3]4	175923-04-3
	テトラキスジエチルアミノジルコニウム	TDEAZ	Zr[N(C2H5)2]4	13801-49-5
	テトラターシャリブトキシジルコニウム	Zr(t-Obu)4	Zr[OC(CH3)]4	2081-12-1
	トリスジメチルアミノシクロペンタジエニルジルコニウム		(C5H5)Zr[N(CH3)2]3	33271-88-4
	テトラキスジメチルヘプタジオナートジルコニウム	Zr(dmhd)4	Zr(C18H30O4)2	69990-43-8
	テトラキステトラメチルヘプタンジオナートジルコニウム	Zr(DPM)4	Zr(C11H19O2)4	18865-74-2
	テトラメチルオクタンジオンジルコニウム	Zr(TMOD)4
	テトラキスメトキシメチルプロポキシジルコニウム	Zr(MMP)4