小型ガス加熱器【HX-0020】

最高加熱200℃でコンパクトな小型ガス加熱。

特長

面間160㎜×幅55㎜のコンパクト設計
N2ガス10SLMを200℃に加熱
接ガス部材（SUS316L）を腐食しないガスの加熱が可能
真空、加圧でも使用が可能

使用例

ALD、CVD装置のホットパージ

ALD、CVD等の真空成膜では液化ガスが多く使われますが、常温ガスでパージすると温度が冷えて凝縮し、逆にパージが不十分になる事があります。そこで、ホットパージが有効です。小型ガス加熱器（HX-0020）はMFCとさほど変わらないフットプリントで、200℃までの加温が可能な為、ユースポイント直近でのガス加熱が可能な為、ALDやCVDなどの真空成膜装置のホットパージに最適です。