高速マスフローコントローラで100msec*¹の高速流量制御、エッチングガスや低差圧条件も対応可能に

高速マスフローコントローラMc-7000

エッチングプロセスやALDプロセスなどの半導体前工程に関係する皆様から、多くの「いつ発売になるのか?」「早く採用したい!」*²という期待の反響を頂いた、当社の自信作「高速マスフローコントローラ MC-7000series」2020年7月発売になりました!!

*¹代表値
*²半導体業界最大の展示会「SEMICON Japan2019」にて発表

「高速マスフローコントローラ MC-7000series」の特長

  1. 高速での流量制御(代表値100msec
  2. 直接ガスに触れない流量センサを搭載、エッチングガスや低差圧条件にも対応可能に

1.高速での流量制御(代表値100msec

高速マスフローコントローラと従来品の比較

高速応答を最大の特長としています。100msec(代表値)という立上り時間は、従来品と比較して10倍の速さを誇り、エッチングプロセスやALDプロセスでは十分な性能を発揮します。

2.直接ガスに触れない流量センサを搭載、エッチングガスや低差圧条件にも対応可能に

今回当社が開発した高速熱式質量流量センサは、測定ガスに直接触れずに従来の圧力式センサを上回る速度での流量測定が可能なため、腐食性ガスの高速流量制御が可能です。エッチングガスの高速流量制御が必要な深掘り工程などでご利用いただけます。

また、圧力損失約100Paの低圧損構造のため、高速の液化ガス流量制御が必要となるALDプロセスでの利用も期待できます。